台积电放弃7nm AI？国产光刻机，亟待突破

台积电否认限制为中国大陆芯片厂商代工7纳米以下工艺AI芯片的传闻。该传闻指出美国可能禁止台积电为大陆AI芯片制造商提供先进工艺服务，引发对中国AI芯片行业的担忧。若消息为真，国内AI芯片产业将受重击，因大部分7纳米AI芯片依赖台积电。面对潜在的代工限制，中国芯片企业需寻求其他方案，如转用非受限工艺或寻找新代工厂。国产7纳米光刻机的研发成为关键，尤其是浸润式DUV光刻机，其技术已接近实现。攻克DUV相对容易，而EUV技术尚掌握在少数国际大厂手中。浸润式DUV通过在晶圆前加水层提高分辨率，有望使中国实现7纳米工艺，减轻对外依赖。